臺(tái)積電副共同營(yíng)運(yùn)長(zhǎng)張曉強(qiáng)近日在公開(kāi)場(chǎng)合透露，公司目前沒(méi)有采購(gòu)阿斯麥最新High-NA EUV光刻機(jī)的計(jì)劃。這一決定主要基于設(shè)備成本過(guò)高，單臺(tái)售價(jià)超過(guò)3.5億歐元，折合人民幣近28億元，遠(yuǎn)超行業(yè)現(xiàn)有設(shè)備價(jià)格水平。

張曉強(qiáng)坦言，新一代光刻機(jī)"價(jià)格極其昂貴"，而臺(tái)積電現(xiàn)有的EUV設(shè)備仍能滿足當(dāng)前生產(chǎn)與研發(fā)需求，能夠充分發(fā)揮其價(jià)值。這款被視為支撐1.4nm及以下先進(jìn)制程的核心裝備，雖然分辨率和制程能力顯著優(yōu)于上一代，但成本也同步大幅攀升，價(jià)格接近普通EUV設(shè)備的1.8倍。

超高定價(jià)的原因在于其獨(dú)家光學(xué)組件、復(fù)雜光源系統(tǒng)以及漫長(zhǎng)的調(diào)試周期。全球范圍內(nèi)僅有阿斯麥能夠供應(yīng)這款設(shè)備，進(jìn)一步推高了終端售價(jià)。盡管如此，臺(tái)積電并未完全放棄這項(xiàng)技術(shù)，此前已采購(gòu)少量設(shè)備用于研發(fā)，但明確表示不會(huì)用于量產(chǎn)。

為了降低對(duì)新設(shè)備的依賴，臺(tái)積電正在通過(guò)工藝優(yōu)化提升競(jìng)爭(zhēng)力。公司近期公布了A13與N2U兩項(xiàng)新工藝，分別計(jì)劃于2029年和2028年投產(chǎn)。這些新工藝旨在不依賴新一代光刻機(jī)的情況下，提升芯片能效、縮小芯片面積，同時(shí)兼顧成本與性能。

作為阿斯麥的最大客戶，臺(tái)積電的暫緩采購(gòu)決定將對(duì)后者產(chǎn)生顯著影響。阿斯麥原本計(jì)劃在2027至2028年大規(guī)模量產(chǎn)High-NA EUV光刻機(jī)，并設(shè)定了2030年的營(yíng)收目標(biāo)，但如今面臨客戶觀望的挑戰(zhàn)。當(dāng)前，臺(tái)積電面臨較大的資本開(kāi)支壓力，資金優(yōu)先投向了3nm產(chǎn)能擴(kuò)張、2nm研發(fā)以及產(chǎn)能布局等關(guān)鍵領(lǐng)域。